来自中国供应商和工厂的HNBR自润滑O型圈 - 耐用、高效的密封解决方案
适用于必须能够承受酸、碱和过氧化氢侵蚀，同时保持高清洁度标准的 CMP 和湿法加工设备。
常见问题解答
问 这些材料适用于哪些类型的设备？
这些材料是专门为高精度制造环境中使用的化学机械抛光 (CMP) 和湿法加工设备而设计的。
问 这些部件能承受强腐蚀性化学物质的侵害吗？
是的，它们具有优异的耐化学腐蚀性，能够承受强酸、强碱和过氧化氢的持续侵蚀而不发生降解。
问 这些材料如何符合清洁标准？
它们经过精心设计，符合严格的清洁标准，最大限度地减少颗粒产生，防止敏感半导体和湿化学工艺中的污染。
问 为什么耐过氧化氢性能对CMP设备很重要？
过氧化氢是一种强氧化剂，常用于化学机械抛光（CMP）浆料中。部件必须能够抵抗化学氧化，以防止过早磨损和工艺污染。
问 这些部件是否适用于洁净室环境？
当然。我们精选并加工原材料，确保其具有超低的释气量和高纯度，完全符合洁净室的要求。