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适用于必须能够承受酸、碱和过氧化氢侵蚀,同时保持高清洁度标准的 CMP 和湿法加工设备。
常见问题解答
本产品适用于哪些类型的湿法加工设备?
它专为半导体湿法加工和化学机械抛光 (CMP) 设备而设计,这些设备需要高耐化学性和严格的污染控制。
这种材料对腐蚀性化学品的抵抗性能如何?
该材料具有优异的化学相容性,能够承受强酸、强碱和过氧化氢等氧化剂的持续作用而不发生降解。
为什么这些部件需要高洁净度标准?
高洁净度可防止半导体制造过程中产生微污染和颗粒,从而确保晶圆良率高并防止工艺缺陷。
这些部件可以根据特定的CMP系统进行定制吗?
是的,组件可以定制,以匹配各种 OEM CMP 和湿式工作台系统的精确尺寸和规格。
在恶劣的化学环境下,其预期寿命是多少?
由于采用了工程材料,这些部件即使在不断接触过氧化氢和酸的情况下,也能延长使用寿命并减少维护周期。











