來自中國供應商和工廠的HNBR自潤滑O型環 - 耐用、高效的密封解決方案
適用於必須能夠承受酸、鹼和過氧化氫侵蝕，同時保持高清潔度標準的 CMP 和濕加工設備。
常見問題解答
問 這些材料適用於哪些類型的設備？
這些材料是專門為高精度製造環境中使用的化學機械拋光 (CMP) 和濕式加工設備而設計的。
問 這些部件能承受強腐蝕性化學物質的侵害嗎？
是的，它們具有優異的耐化學腐蝕性，能夠承受強酸、強鹼和過氧化氫的持續侵蝕而不發生降解。
問 這些材料如何符合清潔標準？
它們經過精心設計，符合嚴格的清潔標準，最大限度地減少顆粒產生，防止敏感半導體和濕化學過程中的污染。
問 為什麼耐過氧化氫性能對CMP設備很重要？
過氧化氫是一種強氧化劑，常用於化學機械拋光（CMP）漿料中。零件必須能夠抵抗化學氧化，以防止過早磨損和製程污染。
問 這些部件是否適用於無塵室環境？
當然。我們精選並加工原料，確保其具有超低的釋氣量和高純度，完全符合無塵室的要求。