中國供應商提供的HNBR自潤滑O型圈:本廠提供符合工業密封需求的耐用解決方案
適用於必須能夠承受酸、鹼和過氧化氫侵蝕,同時保持高清潔度標準的 CMP 和濕加工設備。
常見問題解答
這些組件適用於哪些類型的設備?
這些組件是專門為半導體製造中使用的化學機械拋光 (CMP) 和濕式加工設備而設計的。
這些材料能否承受惡劣的化學環境?
是的,它們經過特殊設計,能夠有效抵抗包括酸、鹼和過氧化氫在內的強腐蝕性物質。
這些組件如何符合清潔標準?
它們採用高純度材料製造,可防止污染,這對於在半導體製造中保持超高的潔淨度標準至關重要。
為什麼耐化學性在CMP應用中很重要?
CMP製程涉及腐蝕性漿料和化學試劑。高耐化學性可確保零件使用壽命更長,減少停機時間,並防止製程污染。
這些成分與過氧化氫(H2O2)相容嗎?
是的,這些材料非常穩定,即使暴露於過氧化氫(濕蝕刻和清洗步驟中常用的物質)中也能抵抗降解。










