中國HNBR自潤滑O型圈供應商 | 來自值得信賴工廠的耐用密封解決方案
適用於必須能夠承受酸、鹼和過氧化氫侵蝕,同時保持高清潔度標準的 CMP 和濕加工設備。
常見問題解答
本產品適用於哪些類型的濕式加工設備?
它專為半導體濕式加工和化學機械拋光 (CMP) 設備而設計,這些設備需要高耐化學性和嚴格的污染控制。
這種材料對腐蝕性化學品的抵抗性能如何?
該材料具有優異的化學相容性,能夠承受強酸、強鹼和過氧化氫等氧化劑的持續作用而不發生降解。
為什麼這些零件需要高潔淨度標準?
高潔淨度可防止半導體製造過程中產生微污染和顆粒,從而確保晶圓良率高並防止製程缺陷。
這些部件可以根據特定的CMP系統進行客製化嗎?
是的,組件可以定制,以匹配各種 OEM CMP 和濕式工作台系統的精確尺寸和規格。
在惡劣的化學環境下,其預期壽命為何?
由於採用了工程材料,這些零件即使在不斷接觸過氧化氫和酸的情況下,也能延長使用壽命並減少維護週期。










