中國HNBR自潤滑O型圈 - 來自可靠供應商和工廠的耐用密封解決方案
適用於必須能夠承受酸、鹼和過氧化氫侵蝕,同時保持高清潔度標準的 CMP 和濕加工設備。
常見問題解答
問: 該產品與哪些應用程式相容?
它是專為半導體製造中的化學機械拋光 (CMP) 和濕式加工設備而設計的。
問: 它是否能承受強酸強鹼的化學腐蝕?
是的,這種材料經過特殊設計,能夠承受持續接觸強腐蝕性酸、鹼和化學清潔劑。
問: 它能耐受過氧化氫(H2O2)環境嗎?
沒錯。它對過氧化氫引起的氧化降解具有極佳的抵抗力。
問: 它如何保持高標準的清潔衛生?
它採用高純度材料製造,最大限度地減少氣體逸出和微量金屬污染,符合嚴格的無塵室標準。
問: 為什麼化學相容性對CMP和濕式加工至關重要?
惡劣的化學環境會迅速降解標準材料,導致污染。高耐化學性可確保設備使用壽命和製程純度。










