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HNBR-Selbstschmierender O-Ring vom chinesischen Hersteller – Langlebige und effiziente Dichtungslösung
Anwendbar auf CMP- und Nassprozessanlagen, die der Einwirkung von Säuren, Laugen und Wasserstoffperoxid standhalten und gleichzeitig hohe Reinheitsstandards gewährleisten müssen.
Häufig gestellte Fragen
Q Für welche Arten von Geräten eignen sich diese Materialien?
Diese Werkstoffe sind speziell für die chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) und Nassbearbeitungsanlagen konzipiert, die in hochpräzisen Fertigungsumgebungen eingesetzt werden.
Q Sind diese Bauteile beständig gegen aggressive Chemikalien?
Ja, sie bieten eine außergewöhnliche chemische Beständigkeit, sodass sie auch bei kontinuierlicher Einwirkung starker Säuren, Laugen und Wasserstoffperoxid ohne Zersetzung überstehen.
Q Inwiefern tragen diese Materialien zur Einhaltung der Reinheitsstandards bei?
Sie sind so konstruiert, dass sie strenge Reinheitsstandards erfüllen, die Partikelbildung minimieren und Verunreinigungen in empfindlichen Halbleiter- und nasschemischen Prozessen verhindern.
Q Warum ist die Wasserstoffperoxidbeständigkeit für CMP-Anlagen wichtig?
Wasserstoffperoxid ist ein starkes Oxidationsmittel, das häufig in CMP-Suspensionen verwendet wird. Bauteile müssen chemischer Oxidation widerstehen, um vorzeitigen Verschleiß und Prozessverunreinigungen zu verhindern.
Q Sind diese Teile mit Reinraumumgebungen kompatibel?
Absolut. Die Materialien werden so ausgewählt und verarbeitet, dass eine extrem geringe Ausgasung und eine hohe Reinheit gewährleistet sind, wodurch sie vollständig mit den Reinraumanforderungen kompatibel sind.











